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中国科技论坛  2022, Issue (12): 128-139    
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芯片光刻技术创新动态过程机制研究
张贝贝1, 李存金2, 尹西明2,3
1.中国科学院科技战略咨询研究院,北京 100190;
2.北京理工大学管理与经济学院,北京 100081;
3.北京市哲学社会科学融合发展研究基地,北京 100081
Research on the Dynamic Mechanism of Chip Lithography Technology Innovation
Zhang Beibei1, Li Cunjin2, Yin Ximing2,3
1. Institutes of Science and Development,Chinese Academy of Science,Beijing 100190,China;
2. School of Management and Economics,Beijing Institute of Technology,Beijing 100081,China;
3. Research Center for Integrated Development,Beijing Institute of Technology,Beijing 100081,China
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